1. Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی امیرکبیر (تهران)

موضوع : Plasma engineering , Plasma )Ionized gases( , Dusty Plasmas , Plasma chemistry , Plasma-enhanced chemical vapor deposition

رده :
TA
2020
.
D88
1999

2. Dusty Plasmas: Physics, Chemistry and Technologyical impacts in plasma

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)

موضوع : Plasma engineering.,Plasma(Ionized gases _ Industrial applications).,Dust.,Plasma chemistry.,Plasma enhanced chemical vapor deposition.

رده :
TA2020
.
D
38

3. Dusty plasma: Physics, chemistry and technological impacts in plasma processing

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)

موضوع : Plasma engineering,Plasma (Ionized gases)- Industrial applications,Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition

رده :
TA2020
.
D88
1999

4. Dusty plasmas:physice,chemistry and technological impacts in plasma processing

کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)

موضوع : Plasma engineering,Plasma(Ionized gases-Industrial applications),Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition

رده :
‭
TA2020
‬ ‭.
D88
1999
‬

5. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

پدیدآورنده :

موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition

۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.

6. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)

موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition

رده :
TA
2020
.
D8